Klaasjas süsinikkattega grafiittiigel

VeTek Semiconductor on Hiinas kohandatud klaassüsinikkattega grafiittiigli juhtiv tarnija, kes on aastaid spetsialiseerunud klaasjas süsinikuga materjalidele. Meie klaassüsinikkattega grafiittiigel on hoolikalt konstrueeritud, et pakkuda erakordset jõudlust spetsiaalselt e-kiirrelvadele, räni monokristalli tõmbamisele, epitaksia. See pakub paremat vastupidavust kriimustuste ja muu hõõrdumise vastu ning vähendab ka tolmu teket.Tere tulemast meile külla.

Saada päring

Tootekirjeldus

Avastage lai valikSiC kate, TaC kateja pürolüütilise grafiidiga kaetud grafiidielemendid ettevõttes VeTek Semiconductor Hiinas. Pakume konkurentsivõimelisi hindu ja professionaalset müügijärgset teenindust, mis teeb meist ideaalse koostööpartneri.

VeTeki pooljuhtklaasist süsinikkattega grafiittiiglid ühilduvad erinevate aurustusallikatega ja on erinevatest materjalidest.Süsinikgrafiitja klaaskattega süsinikgrafiit on populaarsed valikud oma soodsate termiliste omaduste ja taskukohasuse tõttu.

Meie klaassüsinikkattega grafiittiiglid on valmistatud tihedast polükristallilisest materjalist, millel on omavahel seotud poorsus. Neid saab puhastada kuni akõrge tase 5 ppm või vähem, tagades erakordse kvaliteedi.

VeTek SemiconDuctor pakub meie spetsiaalse amorfse süsiniku töötlemisega ka alternatiivi klaaskattega grafiidile. Selle töötlemise tulemuseks on kõva, kulumiskindel ja mittepoorne pind, mis tagab parema vastupidavuse ja kaitse kriimustuste ja hõõrdumise eest.

Meie klaassüsinikkattega grafiittiiglid on mustad ja klaasitaolised,pakkudes kõrget puhtust, keemilist vastupidavust ja gaasi mitteläbilaskvust. Neid kasutatakse laialdaselt pooljuhtide tootmises.

Tänu sellistele omadustele nagu ühilduvus erinevate grafiidist aluspindadega, grafiidi omaduste säilitamine ja grafiidipulbri tootmise vähendamine tagavad meie tiiglid suurema vastupidavuse ja hõõrdumise kaitse.

Meie tiiglite rakendused hõlmavad räni monokristalli tõmbeseadmete osi,epitaksiaalne kasv, pidevvaluvormid ja klaasist tihendusrakised.