PECVD grafiitpaat

VeTek Semiconductor on professionaalne Hiina PECVD grafiitpaadi tootja ja tarnija.

Milline on VeTek Semiconductori päikesepatarei (katte)PECVD grafiitpaadi roll?

Pindamisprotsessi käigus toodetud tavaliste ränivahvlite kandjana on PECVD grafiitpaadil palju kindlate intervallidega konstruktsiooni ja kahe kõrvuti asetseva paadivahvli vahel on väga kitsas ruum ning räniplaadid asetatakse mõlemale. tühja ukse küljed.

Kuna PECVD grafiidist paadimaterjalil grafiidil on head elektri- ja soojusjuhtivusomadused, küsitakse vahelduvpinget kahes kõrvuti asetsevas paadis, nii et kaks külgnevat paati moodustavad positiivse ja negatiivse pooluse, kui kambris on teatud rõhk ja gaas, hõõglahendus toimub kahe paadi vahel, hõõglahendus võib lagundada ruumis oleva SiH4 ja NH3 gaasi, moodustades Si ja N ioone. SiNx molekulid moodustatakse ja sadestatakse ränivahvli pinnale, et saavutada katmise eesmärk.

PECVD grafiitpaat päikesepatareide katmise peegeldusvastase kile kandjana, selle struktuur ja suurus mõjutavad otseselt räniplaatide muundamise efektiivsust ja tootmise efektiivsust, pärast aastatepikkust tehnilist uurimis- ja arendustegevust on meie tehases nüüd täiustatud tootmisseadmed, küpsed tehnoloogiadisainerid ja kogenud tootmispersonal ja materjalid saavad valida imporditud tooraine või kvaliteetse kodumaise materjali. Praegu on meie ettevõtte toodetud grafiitmaja lihtne struktuur, mõistlik kaugus grafiitpaadist, mis muudab ränikatte ühtlaseks, parandab ränivahvli kvaliteeti ja muudab päikeseenergia muundamise efektiivsuse kõrgeks.

Vetek Semiconductoril on igat tüüpi grafiitpaate, mida turg praegu vajab.

Isostaatilise grafiidi põhilised füüsikalised omadused:

Tootmispoed:

Ülevaade pooljuhtkiipide epitaksitööstuse ahelast: