Kodu > Uudised > Tööstusuudised

Mis on CVD TAC kate?

2024-08-09

Nagu me kõik teame,TaCmille sulamistemperatuur on kuni 3880°C, kõrge mehaaniline tugevus, kõvadus, soojuslöögikindlus; hea keemiline inertsus ja termiline stabiilsus kõrgetel temperatuuridel ammoniaagi, vesiniku, räni sisaldava auru suhtes.

Tantalum carbide coating on a microscopic cross-section picture

Tantaalkarbiidkate mikroskoopilisel ristlõikel


CVD TAC kate, keemiline aurustamine-sadestamine (CVD) oftantaalkarbiidi (TaC) kate, on protsess suure tihedusega ja vastupidava katte moodustamiseks aluspinnale (tavaliselt grafiidile). See meetod hõlmab TaC sadestamist substraadi pinnale kõrgel temperatuuril, mille tulemuseks on suurepärase termilise stabiilsuse ja keemilise vastupidavusega kate.


CVD TaC-katete peamised eelised on järgmised:


Äärmiselt kõrge termiline stabiilsus: talub temperatuure üle 2200°C.


Keemiline vastupidavus: talub tõhusalt karme kemikaale, nagu vesinik, ammoniaak ja räni aur.


Tugev adhesioon: tagab pikaajalise kaitse ilma kihistumiseta.


Kõrge puhtusastmega: minimeerib lisandeid, muutes selle ideaalseks pooljuhtrakenduste jaoks.


Need katted sobivad eriti hästi keskkonda, mis nõuab suurt vastupidavust ja vastupidavust ekstreemsetele tingimustele, nagu pooljuhtide tootmine ja kõrge temperatuuriga tööstusprotsessid.


Tööstuslikus tootmises asendavad TaC-kattega kaetud grafiit (süsinik-süsinik komposiit) materjalid suure tõenäosusega traditsioonilist kõrge puhtusastmega grafiiti, pBN-katet, SiC-katte osi jne. Lisaks on TaC-l suur potentsiaal kosmosetööstuses kasutada kõrge temperatuuriga oksüdatsiooni- ja ablatsioonivastase kattena ning sellel on laialdased kasutusvõimalused. Siiski on veel palju väljakutseid, et saavutada grafiidi pinnale tihe, ühtlane, mitteketendus TaC-katte valmistamine ja edendada tööstuslikku masstootmist.


Selles protsessis on kolmanda põlvkonna jaoks üliolulised katte kaitsemehhanismi uurimine, tootmisprotsessi uuendamine ja välismaise tipptasemega võistlemine.pooljuhtkristallide kasv ja epitaksia.




VeTek Semiconductor on professionaalne Hiina CVD tantaalkarbiidkatte toodete, näiteksCVD TaC kattetiigel, CVD TaC kattega vahvlikandja, CVD TaC kattekandja,CVD TaC kate, CVD TaC katterõngas. VeTek Semiconductor on pühendunud täiustatud lahenduste pakkumisele erinevatele pooljuhtide tööstuse kattetoodetele.


VeTek CVD TaC Coating CarrierVETEK CVD TaC Coating CoverVETEK CVD TaC Coating Crucible

VETEK CVD TaC Coating RingVETEK CVD TaC Coating Wafer CarrierCVD TAC Coating PARTS


Kui teil on küsimusi või vajate lisateavet, võtke meiega kindlasti ühendust.

Mob/WhatsAPP: +86-180 6922 0752

E-post: anny@veteksemi.com


X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept