- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Tööstusuudised
Teemant - pooljuhtide tulevane täht
Teemant, potentsiaalne neljanda põlvkonna "ülim pooljuht", pälvib pooljuhtsubstraatides tähelepanu oma erakordse kõvaduse, soojusjuhtivuse ja elektriliste omaduste tõttu. Kuigi selle kõrge hind ja tootmisprobleemid piiravad selle kasutamist, on CVD eelistatud meetod. Hoolimata dopingust ja suure pin......
Loe rohkem
Mis vahe on ränikarbiidi (SiC) ja galliumnitriidi (GaN) rakenduste vahel? - VeTeki pooljuht
SiC ja GaN on laia ribalaiusega pooljuhid, millel on räni ees eelised, nagu kõrgem läbilöögipinge, kiirem lülituskiirus ja suurepärane efektiivsus. SiC sobib kõrgepinge ja suure võimsusega rakenduste jaoks oma kõrgema soojusjuhtivuse tõttu paremini, GaN aga paistab silma kõrgsageduslikes rakendustes......
Loe rohkem
Füüsilise aurustamise-sadestamise (PVD) katte põhimõtted ja tehnoloogia (2/2) – VeTek Semiconductor
Elektronkiirega aurustamine on võrreldes takistuskuumutusega ülitõhus ja laialdaselt kasutatav katmismeetod, mis soojendab aurustusmaterjali elektronkiirega, põhjustades selle aurustumist ja kondenseerumist õhukeseks kileks.
Loe rohkem
Füüsikalise aurustamise-sadestamise katte põhimõtted ja tehnoloogia (1/2) – VeTek Semiconductor
Vaakumkate hõlmab kilematerjali aurustamist, vaakumtransporti ja õhukese kile kasvatamist. Vastavalt erinevatele kilematerjalide aurustamismeetoditele ja transpordiprotsessidele võib vaakumkatte jagada kahte kategooriasse: PVD ja CVD.
Loe rohkem
