Silicon On Isolator Wafer

VeTek Semiconductor on professionaalne Hiina isolatsioonivahvli, ALD planetaaraluse ja TaC-ga kaetud grafiidialuse tootja. VeTek Semiconductor's Silicon On Insulator Wafer on oluline pooljuhtsubstraadi materjal ja selle suurepäraste tooteomaduste tõttu on see võtmeroll suure jõudlusega, väikese võimsusega, suure integratsiooniga ja raadiosageduslike rakenduste puhul. Ootame teiega edasist koostööd.

Saada päring

Tootekirjeldus

TööpõhimõteVeTek pooljuht’sSilicon On Isolator Wafersõltub peamiselt selle ainulaadsest struktuurist ja materjali omadustest. Ja SOI vahvelkoosneb kolmest kihist: ülemine kiht on ühekristalliline räniseadme kiht, keskmine on isoleeriv Buried OXide (BOX) kiht ja alumine kiht on toetav ränisubstraat.

Isolatsioonikihi moodustamine: Silicon On Insulator Waferi valmistamisel kasutatakse tavaliselt Smart Cut™ tehnoloogiat või SIMOX-i (eraldus implanteeritud OXygeniga) tehnoloogiat. Smart Cut™ tehnoloogia süstib vesinikioone ränivahvlisse, et moodustada mullikiht, ja seejärel seob vesinikuga süstitud vahvli kandva räniplaadiga. Pärast kuumtöötlemist eraldatakse vesinikuga süstitud vahvel mullikihist, et moodustada SOI struktuur. SIMOX-tehnoloogia implanteerib suure energiaga hapnikuioone räniplaatidesse, et moodustada kõrgel temperatuuril ränioksiidikiht.

Vähendage parasiitmahtuvust: BOX kihtSilicon On Isolator Waferisoleerib tõhusalt seadme kihi ja põhiräni, vähendades oluliselt parasiitmahtuvust. See isolatsioon vähendab energiatarbimist ning suurendab seadme kiirust ja jõudlust.

Vältige lukustusefekte: n-kaevu ja p-kaevu seadmedSOI vahvelon täielikult isoleeritud, vältides traditsiooniliste CMOS-struktuuride lukustusefekti. See võimaldabSilicon On Isolator wafer valmistada suurematel kiirustel.

Söövitamise peatamise funktsioon: SOI vahvli ühekristalliline räniseadme kiht ja BOX-kihi struktuur hõlbustab MEMS-i ja optoelektrooniliste seadmete tootmist, pakkudes suurepärast söövituspeatusfunktsiooni.

Nende omaduste kauduSilicon On Isolator Wafermängib olulist rolli pooljuhtide töötlemisel ja edendab integraallülituste (IC) ja mikroelektromehaaniliste süsteemide (MEMS) tööstuse pidevat arengut. Ootame siiralt teiega edasist suhtlust ja koostööd.

Toote parameeter：