Kodu > Tooted > Ränikarbiidi kate > Tahke ränikarbiid

Hiina Tahke ränikarbiid Tootja, tarnija, tehas


VeTek Semiconductor Solid Silicon Carbide on oluline keraamiline komponent plasmasöövitusseadmetes, tahke ränikarbiid (CVD ränikarbiid) sisaldavad söövitusseadmete ositeravustamisrõngad, gaasidušipea, kandik, servarõngad jne. Tahke ränikarbiidi (CVD ränikarbiidi) madala reaktsioonivõime ja juhtivuse tõttu kloori ja fluori sisaldavate söövitusgaaside suhtes on see ideaalne materjal plasmasöövitusseadmete teravustamisrõngaste ja muude jaoks. komponendid.


Näiteks fookusrõngas on oluline osa, mis on asetatud vahvlist väljapoole ja on vahvliga otseses kontaktis, rakendades rõngale pinget, et fokusseerida rõngast läbivat plasmat, fokuseerides seeläbi plasma vahvlile, et parandada plaadi ühtlust. töötlemine. Traditsiooniline teravustamisrõngas on valmistatud ränist võikvarts, juhtiv räni kui tavaline fookusrõnga materjal, see on peaaegu lähedane räniplaatide juhtivusele, kuid puuduseks on halb söövituskindlus fluori sisaldavas plasmas, söövitusmasina osade materjalides, mida sageli kasutatakse mõnda aega, on tõsine probleem. korrosiooninähtus, mis vähendab tõsiselt selle tootmise efektiivsust.


Solid SiC Focus RingTööpõhimõte

Working Principle of Solid SiC Focus Ring


Ja-põhise teravustamisrõnga ja CVD SiC teravustamisrõnga võrdlus:

Ja-põhise teravustamisrõnga ja CVD SiC teravustamisrõnga võrdlus
Üksus Ja CVD SiC
Tihedus (g/cm3) 2.33 3.21
Ribavahe (eV) 1.12 2.3
Soojusjuhtivus (W/cm℃) 1.5 5
CTE (x10-6/℃) 2.6 4
Elastsusmoodul (GPa) 150 440
Kõvadus (GPa) 11.4 24.5
Vastupidavus kulumisele ja korrosioonile Vaene Suurepärane


VeTek Semiconductor pakub täiustatud tahke ränikarbiidi (CVD ränikarbiidi) osi, näiteks pooljuhtseadmete SiC teravustamisrõngaid. Meie tahkest ränikarbiidist teravustamisrõngad ületavad traditsioonilist räni mehaanilise tugevuse, keemilise vastupidavuse, soojusjuhtivuse, kõrgel temperatuuril vastupidavuse ja ioonisöövituskindluse poolest.


Meie SiC teravustamisrõngaste põhiomadused hõlmavad järgmist:

Suur tihedus söövituskiiruse vähendamiseks.

Suurepärane isolatsioon suure ribalaiusega.

Kõrge soojusjuhtivus ja madal soojuspaisumistegur.

Suurepärane mehaaniline löögikindlus ja elastsus.

Kõrge kõvadus, kulumiskindlus ja korrosioonikindlus.

Toodetud kasutadesplasmaga täiustatud keemiline aurustamine-sadestamine (PECVD)Meie SiC teravustamisrõngad vastavad pooljuhtide tootmises söövitusprotsesside kasvavatele nõuetele. Need on loodud taluma suuremat plasmavõimsust ja -energiat, eriti seesmahtuvuslikult seotud plasma (CCP)süsteemid.

VeTek Semiconductori SiC teravustamisrõngad pakuvad pooljuhtseadmete valmistamisel erakordset jõudlust ja töökindlust. Valige meie SiC komponendid suurepärase kvaliteedi ja tõhususe tagamiseks.


View as  
 
SiC-kattega tünni sustseptor LPE PE2061S jaoks

SiC-kattega tünni sustseptor LPE PE2061S jaoks

VeTek Semiconductor on juhtiv ränikarbiidiga kaetud tünnsusseptor LPE PE2061S tootja ja uuendaja Hiinas. Oleme aastaid spetsialiseerunud ränikarbiidi kattematerjalidele. Pakume ränikarbiidiga kaetud tünnsusseptorit, mis on loodud spetsiaalselt LPE PE2061S 4-tolliste vahvlite jaoks. Sellel susseptoril on vastupidav ränikarbiidist kate, mis suurendab jõudlust ja vastupidavust LPE (vedelikfaasi epitaksi) protsessi ajal. Ootame teid külastama meie Hiina tehast.

Loe rohkemSaada päring
Tahke SiC gaasiga dušipea

Tahke SiC gaasiga dušipea

VeTek Semiconductor on juhtiv tahke ränikarbiidi gaasi dušipea tootja ja uuendaja Hiinas. Oleme pooljuhtmaterjalidele spetsialiseerunud juba aastaid. VeTek Semiconductor Solid SiC gaasi dušipea mitme poorsusega disain tagab CVD protsessis tekkiva soojuse hajutamise. , tagades, et aluspind soojeneb ühtlaselt. Ootame teiega Hiinas pikaajalist seadistamist.

Loe rohkemSaada päring
Keemilise aurustamise-sadestamise protsess Tahke ränidioksiidi servarõngas

Keemilise aurustamise-sadestamise protsess Tahke ränidioksiidi servarõngas

VeTek Semiconductor on juhtiv keemilise aurustamise protsesside tahke ränidioksiidi servarõnga tootja ja uuendaja Hiinas. Oleme aastaid spetsialiseerunud pooljuhtmaterjalidele. VeTek Semiconductor tahke SiC servarõngas pakub elektrostaatilise padruniga kasutamisel paremat söövituse ühtlust ja täpset vahvli positsioneerimist. , tagades ühtsed ja usaldusväärsed söövitustulemused. Ootame, et saame teie pikaajaliseks partneriks Hiinas.

Loe rohkemSaada päring
Tahke SiC söövitatud teravustamisrõngas

Tahke SiC söövitatud teravustamisrõngas

VeTek Semiconductor on juhtiv tahke ränikarbiidi söövitusrõngaste tootja ja uuendaja Hiinas. Oleme aastaid spetsialiseerunud ränikarbiidi materjalidele. Tahke ränikarbiidi fookusrõnga materjaliks on valitud tänu selle suurepärasele termokeemilisele stabiilsusele, kõrgele mehaanilisele tugevusele ja vastupidavusele plasmale. erosioon. Ootame, et saame teie pikaajaliseks partneriks Hiinas.

Loe rohkemSaada päring
Professionaalse Tahke ränikarbiid tootja ja tarnijana Hiinas on meil oma tehas. Ükskõik, kas vajate kohandatud teenuseid oma piirkonna konkreetsete vajaduste rahuldamiseks või soovite osta täiustatud ja vastupidavat Hiinas valmistatud Tahke ränikarbiid, võite meile sõnumi jätta.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept