Füüsiline aurustamine-sadestamine

Veteki pooljuhtide füüsikaline aurustamine-sadestamine (PVD) on täiustatud protsessitehnoloogia, mida kasutatakse laialdaselt pinnatöötluses ja õhukese kile ettevalmistamisel. PVD-tehnoloogia kasutab füüsilisi meetodeid, et muuta materjalid otse tahkest või vedelast gaasiks ja moodustada sihtsubstraadi pinnale õhuke kile. Selle tehnoloogia eelisteks on kõrge täpsus, kõrge ühtlus ja tugev nakkuvus ning seda kasutatakse laialdaselt pooljuhtides, optilistes seadmetes, tööriistade katetes ja dekoratiivkatetes. Tere tulemast meiega arutlema!

Saada päring

Tootekirjeldus

Vetek Semiconductor on Hiina tootja, kes tarnib täiustatud pooljuhtmaterjale füüsilise aurustamise-sadestamise protsessis, näiteksSiC-kattega tiigel, klaasjas süsiniktiigel,SiC kattega grafiitküttekehad,Elektronkiirrelvade aurustustiiglid.

PVD protsessi põhiprintsiibid

Füüsikalise aurustamise-sadestamise protsessid hõlmavad tavaliselt mitmesuguseid spetsiifilisi meetodeid, nagu aurustamine, pihustamine ja ioonplaatimine. Olenemata kasutatavast meetodist on füüsikalise aurustamise-sadestamise põhiprintsiip materjali aurustamine allikast kõrgel temperatuuril kuumutamise või ioonpommitamise teel. Aurustunud materjal liigub vaakumis või madalrõhukeskkonnas aatomite või molekulide kujul ja kondenseerub substraadi pinnal õhukeseks kileks. See protsess saavutatakse peamiselt füüsikaliste vahenditega, vältides seega keemiliste reaktsioonide mõju materjali puhtusele.

Füüsilise aurustamise-sadestamise tehnoloogia eelised

Kõrge puhtusastmega ja suure tihedusega: PVD-sadestatud kiledel on tavaliselt kõrge puhtus ja tihedus, mis võib oluliselt parandada katte toimivust, näiteks kulumiskindlust, korrosioonikindlust ja kõvadust.

Tugev kile adhesioon: PVD-protsess võib moodustada aluspinnale tugeva nakkuvusega kile, tagades, et kilet ei ole kasutamise ajal lihtne maha kooruda, pikendades toote kasutusiga.

Lai valik materjali: PVD-tehnoloogiat saab rakendada mitmesugustele materjalidele, sealhulgas metallidele, keraamikale ja sulamitele, ning sellega saab valmistada erinevaid funktsionaalseid katteid, nagu juhtivad, isoleerivad, kuumakindlad ja oksüdatsioonivastased katted.

Keskkonnakaitse ja jätkusuutlikkus: Võrreldes selliste protsessidega nagu keemiline aurustamine-sadestamine (CVD), on füüsikalise aurustamise-sadestamise (PVD) protsess keskkonnasõbralikum, ei too kaasa kahjulike gaaside teket ja vähendab keskkonnareostust.

PVD tehnoloogia rakendamine

Pooljuhtide tööstus: Pooljuhtide tootmises kasutatakse füüsikalist aurustamist sageli õhukese kileelektroodide, difusioonitõkete ja metallühenduste valmistamisel, et tagada komponentide hea juhtivus ja stabiilsus.

Optilised seadmed: Füüsikalise aurustamise-sadestamise tehnoloogiat kasutatakse laialdaselt optilistes kattekihtides, nagu peeglite ja läätsede peegeldusvastased katted, ning optiliste filtrite valmistamisel, et parandada optiliste seadmete jõudlust.